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微波等离子清洗机
微波等离子清洗机
微波等离子清洗机
微波等离子清洗机是通过 2.45GHz 微波激发气体产生等离子体，在真空 / 常压环境下对材料表面进行高精度清洁、活化的设备，由微波源、气体供给等系统构成，具备高密度、无电极污染、低温处理优势，广泛应用于半导体、精密电子、医疗等高端领域，是严苛场景下表面处理的核心装备。

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低压真空等离子设备 大气常压等离子设备 微波等离子清洗机 LED封装等离子清洗机 等离子去胶机 等离子刻蚀机
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有机防护薄膜 有机疏水薄膜 功能性无机薄膜 功能性烯碳薄膜
点胶设备
单组份点胶系统 双组份计量混合系统
产品详情
  • 核心定位：以微波（主流 2.45GHz）为能量源，在低压真空 / 常压环境下激发气体产生等离子体，对材料表面进行高精度清洁、活化、刻蚀的专用设备，属等离子清洗机的高能效细分类型
  • 核心构成：微波源（发生器）+ 真空 / 气体供给系统 + 反应腔体 + 控制系统，无电极接触设计
  • 关键特性：等离子体密度高、能量均匀（无电极污染），处理温度 30~80℃，真空型精度达纳米级，常压型可连续作业
  • 典型应用：半导体芯片 / 晶圆清洁、精密电子封装、医疗植入物改性、光学器件处理、高端材料表面活化
  • 核心优势：清洁精度高、无二次污染、处理均匀性优，适配高端制造中对表面质量要求严苛的场景



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